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德爾集團(tuán)產(chǎn)品

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序號(hào)產(chǎn)品類別產(chǎn)品名稱英文名稱化學(xué)式級(jí)別純度用途
1含氟特氣六氟化硫Sulfur HexafluorideSF6高純級(jí) HP99.997%(4N7)滅弧絕緣氣體，特高壓輸變電電力裝備用
2含氟特氣六氟化硫Sulfur HexafluorideSF6電子級(jí) EL99.9995%(5N5)電子氣體，主要應(yīng)用于集成電路、面板、LED等的清洗、蝕刻工藝制程過程
3含氟特氣四氟化碳Carbon TetrafluorideCF4電子級(jí) EL99.9995%(5N5)電子氣體，主要應(yīng)用于集成電路、面板、LED等的清洗、蝕刻工藝制程過程；也大量應(yīng)用于光纖棒制作工藝過程
4含氟特氣六氟乙烷HexafluoroethaneC2F6電子級(jí) EL99.999%(5N)電子氣體，主要應(yīng)用于集成電路、面板、LED等的清洗、蝕刻工藝制程過程
5含氟特氣三氟甲烷TrifluoromethaneCHF3電子級(jí) EL99.9995%(5N5)電子氣體，主要應(yīng)用于集成電路、面板、LED等的清洗、蝕刻工藝制程過程
6含氟特氣八氟環(huán)丁烷OctafluorocyclobutaneC4F8電子級(jí) EL99.999%(5N)電子氣體，主要應(yīng)用于集成電路、面板、LED等的清洗、蝕刻工藝制程過程
7含氟特氣氟氮混合氣Fluorine Nitrogen mixtureF2/N2電子級(jí) ELF2: 99.95%(3N5)
N2:99.999%(5N)		電子氣體，主要應(yīng)用于集成電路、面板、LED等的清洗、蝕刻工藝制程過程
8含氟特氣八氟丙烷PerfluoropropaneC3F8電子級(jí) EL99.999%(5N)電子氣體，主要應(yīng)用于集成電路、面板、LED等的清洗、蝕刻工藝制程過程
9含氟特氣二氟甲烷DifluoromethaneCH2F2電子級(jí) EL99.9995%(5N5)電子氣體，主要應(yīng)用于集成電路、面板、LED等的清洗、蝕刻工藝制程過程
10含氟特氣一氟甲烷FluoromethaneCH3F電子級(jí) EL99.9995%(5N5)電子氣體，主要應(yīng)用于集成電路、面板、LED等的清洗、蝕刻工藝制程過程
11含氟特氣三氟化氯Chlorine TrifluorideClF3電子級(jí) EL99.995%(4N5)電子氣體，主要應(yīng)用于集成電路、面板、LED等的清洗、蝕刻工藝制程過程
12含氟特氣三氟化磷Phosphorus trifluoridePF3電子級(jí) EL99.99%(4N)電子氣體，蝕刻工藝使用，將用于高深寬比的高層新一代產(chǎn)品刻蝕
13電子特氣硅烷SilaneSiH4電子級(jí) EL99.9999%(6N)廣泛應(yīng)用于微電子、光電子、太能能電池制造、平板顯示器、集成電路、鋰電池制造、碳硅負(fù)極等領(lǐng)域
14電子特氣氧化亞氮Nitrous OxygenN2O電子級(jí) EL99.9995%(5N5)用于半導(dǎo)體工業(yè)SIO2薄膜沉積等工藝，光伏工業(yè)金屬背光氣氧化、氮摻雜氧化、調(diào)控材料表面和界面結(jié)構(gòu)等，也可用于真空撿漏、溶劑及煙霧殺蟲劑等領(lǐng)域
15電子特氣液氧Ultra-pure OxygenO2電子級(jí) EL99.9999%(6N)用于半導(dǎo)體工業(yè)等離子蝕刻等工藝，光伏工業(yè)化學(xué)氣相沉積、硅片的清洗時(shí)刻和電池片鈍化等，特種冶煉除雜，醫(yī)學(xué)治療、電子工業(yè)等離子刻蝕，航空航天等領(lǐng)域
16稀有氣體高純氙High Purity XenonXe電子級(jí) EL99.9995%(5N5)電子氣體，主要應(yīng)用于集成電路、面板、LED等的清洗、蝕刻工藝制程過程
17稀有氣體高純氪High Purity KryptonKr電子級(jí) EL99.999%(5N)電子氣體，主要應(yīng)用于集成電路、面板、LED等的清洗、蝕刻工藝制程過程
18稀有氣體高純氖High Purity NeonNe電子級(jí) EL99.999%(5N)電子氣體，主要應(yīng)用于集成電路、面板、LED等的清洗、蝕刻工藝制程過程
19稀有氣體高純氦High Purity HeliumHe電子級(jí) EL99.999%(5N)電子氣體，主要應(yīng)用于集成電路、面板、LED等的清洗、蝕刻工藝制程過程
20基礎(chǔ)化學(xué)品無水氟化氫Hydrogen FluorideAHF工業(yè)級(jí) IN99.98%(3N)用于制取氟元素、氟鹽、氟鹵烷也可用作氟化劑。制備電子級(jí)氫氟酸。廣泛用于半導(dǎo)體制程、光伏行業(yè)、制冷劑、新能源、橡膠涂料、金屬表面處理等領(lǐng)域
21基礎(chǔ)化學(xué)品氫氟酸Hydrofluoric AcidHF工業(yè)級(jí) IN-廣泛用于玻璃工業(yè)、半導(dǎo)體制程、光伏行業(yè)、制冷劑、新能源、橡膠涂料、金屬表面處理等領(lǐng)域
22新能源材料六氟磷酸鋰Lithium hexafluorophosphateLiPF6電池級(jí)(晶體)99.95%(3N5)鋰電池電解液主要鋰鹽
23新能源材料四氟硼酸鋰Lithium tetrafluoroborateLiBF4電池級(jí)(晶體)99.50%鋰電池電解液功能性新型添加劑
24新能源材料雙草酸硼酸鋰Lithium bisoxalate borateLiBOB 電池級(jí)(晶體)99.50%鋰電池電解液功能性新型添加劑
25新能源材料二氟磷酸鋰Lithium difluorophosphateLiPO2F2電池級(jí)(晶體)99.9%(3N)鋰電池電解液功能性新型添加劑
26新能源材料二氟草酸硼酸鋰Lithium borate difluoroxalateLiDFOB 電池級(jí)(晶體)99.9%(3N)鋰電池電解液功能性新型添加劑
27新能源材料二氟雙草酸磷酸鋰Lithium difluorodioxalate phosphateC4F2LiO8P 電池級(jí)(EMC液態(tài))20±2%(濃度)鋰電池電解液功能性新型添加劑
28濕電子化學(xué)品氫氟酸Hydrofluoric AcidHF電子級(jí) UPSSS、UPSS、UPS、EL、IN＜10 ppt電子級(jí)濕化學(xué)品，主要應(yīng)用于集成電路、面板、LED等的清洗、蝕刻工藝制程過程
29超高純氣體氟化氫Hydrogen FluorideAHF電子級(jí) UPSSS99.999%(5N)電子氣體，蝕刻工藝使用，將用于高深寬比的高層新一代產(chǎn)品刻蝕；
30濕電子化學(xué)品硫酸Sulphuric AcidH2SO4電子級(jí) UPSSS、UPSS、UPS、EL、IN＜10 ppt電子級(jí)濕化學(xué)品，主要應(yīng)用于集成電路、面板、LED等的清洗、蝕刻工藝制程過程
31濕電子化學(xué)品氨水AmmoniaNH3.H2O電子級(jí) UPSSS、UPSS、UPS、EL、IN＜10 ppt電子級(jí)濕化學(xué)品，主要應(yīng)用于集成電路、面板、LED等的清洗、蝕刻工藝制程過程
32濕電子化學(xué)品氟化銨Ammonium FluorideNH4F電子級(jí) UPSS、UPS、EL、IN
電子級(jí)濕化學(xué)品，主要應(yīng)用于集成電路、面板、LED等的清洗、蝕刻工藝制程過程
33濕電子化學(xué)品雙氧水Hydrogen Peroxide H2O2電子級(jí) UPSSS、UPSS、UPS、EL、IN＜10 ppt電子級(jí)濕化學(xué)品，主要應(yīng)用于集成電路、面板、LED等的清洗、蝕刻工藝制程過程
34濕電子化學(xué)品鹽酸Hydrochloric AcidHCl電子級(jí) UPSSS、UPSS、UPS、EL、IN＜10 ppt電子級(jí)濕化學(xué)品，主要應(yīng)用于集成電路、面板、LED等的清洗、蝕刻工藝制程過程
35濕電子化學(xué)品硝酸Acetic AcidHNO3電子級(jí) UPSSS、UPSS、UPS、EL、IN＜10 ppt電子級(jí)濕化學(xué)品，主要應(yīng)用于集成電路、面板、LED等的清洗、蝕刻工藝制程過程
36TFT化學(xué)品光阻剝離液StripperMixture電子級(jí) EL
主要應(yīng)用于面板、LED等的清洗、蝕刻工藝制程過程
37TFT化學(xué)品光阻洗凈液EBR Mixture電子級(jí) EL
主要應(yīng)用于面板、LED等的清洗、蝕刻工藝制程過程
38TFT化學(xué)品鋁蝕刻液Al Etchant Mixture電子級(jí) EL
主要應(yīng)用于面板、LED等的清洗、蝕刻工藝制程過程
39TFT化學(xué)品銅蝕刻液Cu EtchantMixture電子級(jí) EL
主要應(yīng)用于面板、LED等的清洗、蝕刻工藝制程過程
40TFT化學(xué)品BOE蝕刻液BOE EtachantMixture電子級(jí) UPSS、UPS、 EL＜100 ppt主要應(yīng)用于面板、LED等的清洗、蝕刻工藝制程過程
41基礎(chǔ)化學(xué)品98%硫酸Sulphuric AcidH2SO4工業(yè)級(jí)IN

42基礎(chǔ)化學(xué)品104.5%發(fā)煙硫酸Sulphuric AcidH2SO4工業(yè)級(jí)IN

43基礎(chǔ)化學(xué)品精制硫酸Sulphuric AcidH2SO4工業(yè)級(jí)IN

44基礎(chǔ)化學(xué)品三氧化硫Sulfur TrioxideSO3工業(yè)級(jí)IN


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